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加快打造原始創(chuàng)新策源地，加快突破關(guān)鍵核心技術(shù)，努力搶占科技制高點(diǎn)，為把我國建設(shè)成為世界科技強(qiáng)國作出新的更大的貢獻(xiàn)。

——習(xí)近平總書記在致中國科學(xué)院建院70周年賀信中作出的“兩加快一努力”重要指示要求

面向世界科技前沿、面向經(jīng)濟(jì)主戰(zhàn)場(chǎng)、面向國家重大需求、面向人民生命健康，率先實(shí)現(xiàn)科學(xué)技術(shù)跨越發(fā)展，率先建成國家創(chuàng)新人才高地，率先建成國家高水平科技智庫，率先建設(shè)國際一流科研機(jī)構(gòu)。

——中國科學(xué)院辦院方針

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首屆國際先進(jìn)光刻技術(shù)研討會(huì)閉幕

2017-10-20 微電子研究所
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語音播報(bào)

　　10月13日下午，首屆國際先進(jìn)光刻技術(shù)研討會(huì)勝利閉幕，本次會(huì)議為期兩天，由集成電路產(chǎn)業(yè)技術(shù)創(chuàng)新戰(zhàn)略聯(lián)盟主辦，中國科學(xué)院微電子研究所承辦，中芯國際(SMIC)、長(zhǎng)江存儲(chǔ)(YMTC)、華虹集團(tuán)等贊助。會(huì)議共有200余人參會(huì)，分別來自中國、美國、德國、日本等世界各地眾多名企、廠商、科研機(jī)構(gòu)、高校等。

　　會(huì)議開始，大會(huì)主席、集成電路產(chǎn)業(yè)技術(shù)創(chuàng)新戰(zhàn)略聯(lián)盟理事長(zhǎng)、科技部原副部長(zhǎng)曹健林，國家外專局原局長(zhǎng)馬俊如，科技部重大專項(xiàng)辦副巡視員、02專項(xiàng)實(shí)施管理辦公室副主任邱鋼先后為大會(huì)致開幕詞。

　　大會(huì)副主席、中科院微電子所所長(zhǎng)葉甜春就當(dāng)前行業(yè)趨勢(shì)作了分析報(bào)告。按照大會(huì)安排，在這兩天的時(shí)間里，來自Intel、IBM、Qualcomm(高通)、AMD、ASML、SMIC等公司的特邀嘉賓分別就擬定的主題作了特邀報(bào)告，深入分析了光刻領(lǐng)域先進(jìn)節(jié)點(diǎn)最新的技術(shù)手段和解決方案，內(nèi)容豐富，包含7nm及以下節(jié)點(diǎn)的計(jì)算光刻技術(shù)、SMO、DTCO、EUV、DSA、Design rules、光刻設(shè)備、材料等。

打印 責(zé)任編輯：陳丹

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