——習(xí)近平總書記在致中國科學(xué)院建院70周年賀信中作出的“兩加快一努力”重要指示要求
——中國科學(xué)院辦院方針
語音播報(bào)
針對(duì)SOT-MRAM在未來量產(chǎn)過程中可能面臨的此類問題,微電子所微電子器件與集成技術(shù)重點(diǎn)實(shí)驗(yàn)室從優(yōu)化磁性存儲(chǔ)器整體性能及制備工藝的角度出發(fā),提前開展此類問題的研究。對(duì)于上述可能的寫入電流非對(duì)稱問題,研究人員及其合作者通過測(cè)定在有無輔助磁場(chǎng)下的SOT效率與寫入電流方向、輔助場(chǎng)方向及強(qiáng)弱之間的關(guān)系,直接證實(shí)了支配寫入過程的SOT效率也具有本征的非對(duì)稱性。進(jìn)一步研究表明,此非對(duì)稱性來源于輔助磁場(chǎng)對(duì)磁性功能層內(nèi)部自旋排列的精細(xì)影響。在此基礎(chǔ)上,研究人員測(cè)試了臨界寫入電流和SOT效率的關(guān)系,分析了寫入過程的兩種物理機(jī)制,認(rèn)為基于手性疇壁運(yùn)動(dòng)的磁疇擴(kuò)展機(jī)制主導(dǎo)了SOT-MRAM的寫入過程,但另一種一致磁翻轉(zhuǎn)機(jī)制也可能隨機(jī)發(fā)生,從而為寫入過程引入額外的非對(duì)稱性。相關(guān)的研究結(jié)果從物理機(jī)理上限定了實(shí)現(xiàn)SOT-MRAM對(duì)稱性寫入的條件,為下一步電路設(shè)計(jì)和器件結(jié)構(gòu)優(yōu)化提供了設(shè)計(jì)準(zhǔn)則。
相關(guān)研究成果以Write Asymmetry of Spin-Orbit Torque Memory Induced by In-Plane Magnetic Fields為題于近期發(fā)表在IEEE Electron Device Letters上。該工作得到了國家重點(diǎn)研發(fā)計(jì)劃、國家自然科學(xué)基金以及中科院相關(guān)項(xiàng)目的支持。
微電子所微電子器件與集成技術(shù)重點(diǎn)實(shí)驗(yàn)室自2019年設(shè)立磁存儲(chǔ)及自旋電子器件研究方向以來,主要集中在從物理機(jī)理的角度解決限制MRAM發(fā)展的關(guān)鍵技術(shù)問題,以及從事自旋波耦合系統(tǒng)和環(huán)柵(GAA)型自旋器件在量子計(jì)算等前沿領(lǐng)域的研究。目前實(shí)驗(yàn)室已具備了MRAM核心器件磁性隧道結(jié)(MTJ)的生長(zhǎng)及微加工能力,建成了包括自旋轉(zhuǎn)移矩的高低頻測(cè)試以及磁性存儲(chǔ)器在0.5 ns以下的高速寫入及動(dòng)態(tài)觀測(cè)系統(tǒng)在內(nèi)的研發(fā)體系。
圖(a)SOT-MRAM器件的結(jié)構(gòu)及測(cè)試示意圖;圖(b)SOT效率和輔助磁場(chǎng)在不同寫入電流方向下的關(guān)系;圖(c)高低阻態(tài)寫入電流的差值相對(duì)于寫入電流的比值和輔助磁場(chǎng)的關(guān)系;圖(d)臨界寫入電流隨輔助磁場(chǎng)的變化。實(shí)線為基于磁疇擴(kuò)展的寫入機(jī)制;虛線為基于一致翻轉(zhuǎn)的寫入機(jī)制
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