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加快打造原始創(chuàng)新策源地,加快突破關(guān)鍵核心技術(shù),努力搶占科技制高點(diǎn),為把我國(guó)建設(shè)成為世界科技強(qiáng)國(guó)作出新的更大的貢獻(xiàn)。

——習(xí)近平總書記在致中國(guó)科學(xué)院建院70周年賀信中作出的“兩加快一努力”重要指示要求

面向世界科技前沿、面向經(jīng)濟(jì)主戰(zhàn)場(chǎng)、面向國(guó)家重大需求、面向人民生命健康,率先實(shí)現(xiàn)科學(xué)技術(shù)跨越發(fā)展,率先建成國(guó)家創(chuàng)新人才高地,率先建成國(guó)家高水平科技智庫(kù),率先建設(shè)國(guó)際一流科研機(jī)構(gòu)。

——中國(guó)科學(xué)院辦院方針

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福建物構(gòu)所金屬有機(jī)框架材料光催化CO2還原全反應(yīng)研究獲進(jìn)展

2020-08-27 福建物質(zhì)結(jié)構(gòu)研究所
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語(yǔ)音播報(bào)

  光催化CO2全還原反應(yīng),即模擬自然光合作用吸收太陽(yáng)能將CO2H2O轉(zhuǎn)化為高附加值產(chǎn)物(如碳?xì)浠衔铩?/span>CO等),具有研究意義與應(yīng)用前景。晶態(tài)多孔的金屬有機(jī)框架材料(MOFs)具有可調(diào)變的組分及結(jié)構(gòu),理論上能夠?qū)崿F(xiàn)原子級(jí)的結(jié)構(gòu)設(shè)計(jì)與調(diào)控,近年來(lái)成為新興的光催化材料/平臺(tái)。目前已報(bào)道的用于光催化CO2還原的穩(wěn)定MOFs多由含ZrAl等的金屬氧簇與羧酸配體構(gòu)成,抬高金屬節(jié)點(diǎn)的活化能壘,阻礙配體/節(jié)點(diǎn)界面的電荷轉(zhuǎn)移,相比之下,由催化活性較高的金屬元素(如Co、Ni、Cu等)與羧酸配體構(gòu)成MOFs卻無(wú)法保持結(jié)構(gòu)穩(wěn)定。此外,當(dāng)前多數(shù)體系使用不經(jīng)濟(jì)的空穴犧牲劑,以單方面提高CO2還原半反應(yīng)的產(chǎn)率,同時(shí)反應(yīng)多限于液相,難以利用MOFs氣體吸附量高的優(yōu)勢(shì)。 

  有鑒于此,中國(guó)科學(xué)院福建物質(zhì)結(jié)構(gòu)研究所結(jié)構(gòu)化學(xué)國(guó)家重點(diǎn)實(shí)驗(yàn)室研究員曹榮團(tuán)隊(duì),從MOFs配體與金屬節(jié)點(diǎn)配位層的角度入手,選取由吡唑基金屬卟啉與NiOx簇構(gòu)筑的PCN-601作為光催化劑,實(shí)現(xiàn)在CO2和水蒸氣的氣固相體系中的光催化CO2全還原反應(yīng),其CO2CH4的產(chǎn)率達(dá)到已報(bào)道的室溫光催化CO2全還原體系的水平。該反應(yīng)避免犧牲劑的使用,發(fā)揮了MOFs高氣體吸附量的優(yōu)勢(shì)。機(jī)理研究剖析熱力學(xué)層面上PCN-601結(jié)構(gòu)中光生電荷的遷移路徑,繼而從動(dòng)力學(xué)角度評(píng)估吡唑/NiOx簇配位界面上電荷分離與遷移的效率以及結(jié)構(gòu)對(duì)反應(yīng)底物分子的作用情況。理論及實(shí)驗(yàn)結(jié)果證明,相比于羧酸基-ZrOx簇配位層構(gòu)筑的MOFsPCN-601的吡唑-NiOx配位層使其形成穩(wěn)定框架的同時(shí),有利于光生電子從配體至節(jié)點(diǎn)的超快遷移以及CO2H2O分子的吸附與活化,改善其光催化CO2還原全反應(yīng)的動(dòng)力學(xué)。該研究表明,通過(guò)配位結(jié)構(gòu)的精細(xì)設(shè)計(jì)有望解決MOFs結(jié)構(gòu)穩(wěn)定性與光催化活性之間的矛盾。 

  相關(guān)研究成果發(fā)表在《美國(guó)化學(xué)會(huì)志》上,論文第一作者為博士方志斌。研究工作獲得國(guó)家自然科學(xué)基金、國(guó)家重點(diǎn)研發(fā)計(jì)劃、中科院戰(zhàn)略性先導(dǎo)科技專項(xiàng)、中科院前沿科學(xué)重點(diǎn)研究計(jì)劃等的資助,并得到華東理工大學(xué)、中科院大連化學(xué)物理研究所等的支持。

  論文鏈接 

福建物構(gòu)所金屬有機(jī)框架材料光催化CO2還原全反應(yīng)研究獲進(jìn)展

 

打印 責(zé)任編輯:董凱悅

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