院況簡介
1949年,伴隨著新中國的誕生,中國科學(xué)院成立。
作為國家在科學(xué)技術(shù)方面的最高學(xué)術(shù)機構(gòu)和全國自然科學(xué)與高新技術(shù)的綜合研究與發(fā)展中心,建院以來,中國科學(xué)院時刻牢記使命,與科學(xué)共進,與祖國同行,以國家富強、人民幸福為己任,人才輩出,碩果累累,為我國科技進步、經(jīng)濟社會發(fā)展和國家安全做出了不可替代的重要貢獻。 更多簡介 +
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中國科學(xué)院學(xué)部
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近期,中國科學(xué)院上海光學(xué)精密機械研究所量子光學(xué)重點實驗室與加州理工學(xué)院教授汪立宏合作,揭示了光學(xué)記憶效應(yīng)本質(zhì)就是空間平移不變性,從微觀過程描述了不同散射成分對記憶效應(yīng)的貢獻。相關(guān)論文發(fā)表在[Photonics Research 7, 1323 (2019)]。
透過散射介質(zhì)成像是從生物醫(yī)學(xué)到大氣光學(xué)廣泛研究的課題,而散斑自相關(guān)成像因其簡單、快速、無損等特性而備受關(guān)注。散斑自相關(guān)成像的前提是光學(xué)記憶效應(yīng),記憶效應(yīng)的范圍決定了成像的視場。擴大成像視場是散斑自相關(guān)成像亟待解決的問題。
該研究中,研究人員首先從光經(jīng)過隨機相位屏和光闌傳播的對比中發(fā)現(xiàn)散斑平移不變性,即記憶效應(yīng)實際上是高階的空間平移不變性。進而建立雙層隨機相位屏模型,推導(dǎo)得出記憶效應(yīng)范圍更為準確的公式,通過空間功率譜把體散射介質(zhì)和隨機相位屏聯(lián)系起來,定量描述了散射系數(shù)、散射次數(shù)、介質(zhì)厚度、各向異性因子對記憶效應(yīng)范圍的影響,并從微觀分析了不同散射成分的記憶效應(yīng)范圍。
該項研究提供了有關(guān)記憶效應(yīng)的全新物理圖像,并基于此圖像構(gòu)建了新型散射介質(zhì)模型,可以模擬光在散射介質(zhì)中的相干傳播,為擴大散斑自相關(guān)成像視場提供了理論基礎(chǔ),也為透過散射介質(zhì)光學(xué)成像提供了有力工具。
圖1 激光經(jīng)過光闌和隨機相位屏的對比
圖2 雙層屏模型對比
圖3 模擬和實驗結(jié)果
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